2017年10月12日-13日，首届国际先进光刻技术研讨会在北京国际会议中心举行，由集成电路产业技术创新战略联盟主办，中国科学院微电子研究所承办，中芯国际(SMIC)、长江存储(YMTC)、华虹集团、Mentor、ASML、KLA Tencor、南大光电(Nata)、上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)、Synopsys、Toppan、JSR、东方晶源、沈阳芯源赞助。会议共有200余人参会，分别来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校等。我公司董事秦怡生、副总经理杨建国参加了本次研讨会。

　　大会主席、集成电路产业技术创新战略联盟理事长、科技部原副部长曹健林，国家外专局原局长马俊如，科技部重大专项办副巡视员、02专项实施管理办公室副主任邱钢先后为大会致开幕词，大会副主席、中科院微电子研究所所长叶甜春就当前行业趋势做了分析报告，大会秘书长、中科院微电子研究所计算光刻研发中心主任韦亚一研究员主持开幕式。按照大会安排，在这两天的时间里，来自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉宾分别就拟定的主题做了特邀报告，深入分析了光刻领域先进节点的技术手段和解决方案，内容丰富，包含7nm及以下节点的计算光刻技术、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻设备、材料等。会后，参会嘉宾进行合影留念。